N2 BWS 是同Wafer Sorter搭載一起的，減少wafer表面的膜反應(yīng)。
可以存放800/1600/3200片不等數(shù)量的晶圓
通過少量的N2流量吹掃，實(shí)現(xiàn)低氧，低濕度，高潔凈度的環(huán)境控制。
可實(shí)現(xiàn)Auto Teaching
通過Wafer前方的可開啟關(guān)閉的shutter結(jié)構(gòu)，減小取放片時的開口尺寸。
N2 BWS 是同Wafer Sorter搭載一起的，減少wafer表面的膜反應(yīng)。
可以存放800/1600/3200片不等數(shù)量的晶圓
通過少量的N2流量吹掃，實(shí)現(xiàn)低氧，低濕度，高潔凈度的環(huán)境控制。
可實(shí)現(xiàn)Auto Teaching
通過Wafer前方的可開啟關(guān)閉的shutter結(jié)構(gòu)，減小取放片時的開口尺寸。
| 型號： | BWS800 RI76172 | ||||
| 搬送對象： | 300mm | Wafer ： | Φ300±0.2mm | 厚度： | 775μm±20μm |
| 料盒： | 300mm FOUP 25段(SEMI E47.1) 300mm FOSB 25 段(SEMI M31) | ||||
| 電源電壓： | 3相 AC208V±10% 50/60Hz±5% | ||||
| 電流消耗： | 10kVA (30A/200VAC) 含F(xiàn)FU在內(nèi) | ||||
| 真空（元壓） ： | -80kPa～-90kPa | ||||
| 真空（流量） ： | 60L/min | ||||
| Air（元壓） ： | 0.6MPa～0.7MPa | ||||
| Air（流量） ： | 30L/min | ||||
| N2（元壓） ： | 0.4MPa～0.5MPa | ||||
| N2（流量） ： | 300L/min | ||||
| 型號： | BWS1600 RI76192 | ||||
| 搬送對象： | 300mm | Wafer ： | Φ300±0.2mm | 厚度： | 775μm±20μm |
| 料盒： | 300mm FOUP 25段(SEMI E47.1) 300mm FOSB 25 段(SEMI M31) | ||||
| 電源電壓： | 3相 AC208V±10% 50/60Hz±5% | ||||
| 電流消耗： | 10kVA (30A/200VAC) 含F(xiàn)FU在內(nèi) | ||||
| 真空（元壓） ： | -80kPa～-90kPa | ||||
| 真空（流量） ： | 60L/min | ||||
| Air（元壓） ： | 0.6MPa～0.7MPa | ||||
| Air（流量） ： | 30L/min | ||||
| N2（元壓） ： | 0.4MPa～0.5MPa | ||||
| N2（流量） ： | 600L/min | ||||
| 型號： | BWS3200 RSC2E2 | ||||
| 搬送對象： | 300mm | Wafer ： | Φ300±0.2mm | 厚度： | 775μm±20μm |
| 料盒： | 300mm FOUP 25段(SEMI E47.1) 300mm FOSB 25 段(SEMI M31) | ||||
| 電源電壓： | 3相 AC208V±10% 50/60Hz±5% | ||||
| 電流消耗： | 25kVA (75A/200VAC) 含F(xiàn)FU在內(nèi) | ||||
| 真空（元壓） ： | -80kPa～-90kPa | ||||
| 真空（流量） ： | 60L/min | ||||
| Air（元壓） ： | 0.6MPa～0.7MPa | ||||
| Air（流量） ： | 30L/min | ||||
| N2（元壓） ： | 0.4MPa～0.5MPa | ||||
| N2（流量） ： | 1200L/min | ||||
